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提出了一种新颖的多孔硅表面钝化技术，即采用微波等离子体辅助的化学气相沉积（MPCVD）方法在多孔硅上沉积金刚石薄膜。采用原子力显微......

本文利用软压头技术，探讨了金刚石薄膜材料在点接触加载条件下的破坏形式以及外加应力与薄膜破坏之间的关系。......

Nano-diamond particles are co-deposited on Ti substrates with metal (Ti/Ni) nanoparticles (NPs) by the elec-trophoretic ......

利用Ｘ射线衍射研究了化学气相沉积的金刚石薄膜的应力情况。研究表明：热应力在研究范围内为压应力，本征应力是张应力。分析了薄膜厚度......

本文介绍了在８６３新材料领域资助下最新研制成功的１００ＫＷ级高功率直流等离子体喷射金刚石膜沉积系统，利用该系统在氩气－氢气－甲烷气体系中进行了......

金刚石膜的电阻率是衡量金刚石膜性能的一个重要指标。由于各种因素的影响，在沉积后的金刚石膜的电阻率比较低，还达不到实用要求，需要......